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redENERGY® G4 Pulsed Laser

마킹 및 펄스 미세 기계 가공에 적합한 유연성과 속도.

20W – 200W
나노 초 펄스 레이저

redENERGY G4는 GTWave 및 PulseTune 기술 기반의 SPI Lasers 펄스 광섬유 레이저 모듈을 대표하는 이름입니다.

redENERGY® 펄스 레이저

이 레이저는 나노세컨드 펄스 지속 방식으로 작동하며 다양한 분야에서 널리 사용되므로 사용자에게 탁월한 다용성과 유연성을 제공합니다.

redENERGY G4 제품 포트폴리오를 필터링하려면 아래의 제품 이미지를 클릭하십시오. 응용 분야에 적합한 이상적인 파이버 레이저 사양 시트를 찾아서 다운로드하십시오.

 

Increased Productivity
Increased Flexibility
Increased Flexibility
Increased Flexibility

주요 혜택

융통성 있는

레이저는 높은 정밀도로 고속으로 비접촉 공정으로 영구적 인 마크를 생산할 때 재료가 무엇이든 상관없이 선택 도구입니다. 레이저 마킹은 소모품이 필요 없으며 마크는 컴퓨터 생성이므로 매우 유연합니다.

redENERGY® G4는 OEM 통합의 용이성을 높이기 위해 각별한주의를 기울여 설계되어 전체 제품 기능 및 범위를 손쉽게 채택 할 수 있습니다. redENERGY® G4는 전례없는 신뢰성과 일관성을 제공하는 대용량 제조에 도움이되도록 설계되었습니다.

혁신적인 기술

당사의 G4 모델은 4 세대 redENERGY® 펄스 레이저 제품 플랫폼이며 PulseTune 지원 레이저를 새로운 차원으로 이동시켜 미세 가공을위한 향상된 기능을 갖춘 펄스 된 나노초 기술의 절정입니다.

PulseTune 기술은 OEM 업체가 펄스 폭과 피크 전력에 대해 매우 유연하게 제어 할 수 있도록합니다. 독특한 PulseTune 기능은 피크 전력을 유지하면서 시장을 선도하는 반복 속도를 가능하게합니다.

Key Benefits

변하기 쉬운

당사의 redENERGY Pulsed Lasers의 핵심 차별화 요소는 최대 40 개의 선택 파형의 유연성과 유연성에 수반되는 이점입니다. 개별 애플리케이션에 핵심 펄스 특성을 최적화 할 수 있으므로 프로세스 품질과 생산성이 향상됩니다.

유지 보수 없음

당사의 제품이 길고 유지 보수가 필요없는 제품을 제공 할 수 있도록 설계 단계에서 모든주의가 기울여졌습니다.

redENERGY® G4 Pulsed Lasers는 ‘Fit & Forget’기술을 사용하여 유지 관리가 필요 없으므로 시간이 많이 걸리는 유지 보수 일정보다는 출력에 집중할 수 있습니다.

제조 가능성 및 신뢰성을 고려한 설계 redENERGY® G4는 업계 최고의 3 년 품질 보증 표준을 바탕으로 새로운 품질 표준을 제시합니다.

주요 이점:

 
  • 통합이 용이한 컴팩트한 디자인과 견고한 성능
  • 서비스가 필요하지 않은 ‘Fit & Forget(안심 장착)’ 기술
  • 모든 레이저의 공통 인터페이스
  • ‘플러그앤플레이’ 빔 방출 인터페이스
  • 복수 연결 옵션
  • 시장을 선도하는 제어 성능
  • 전자 제품의 현장 서비스 가능성
  • 3년 표준 보증

재료:

 
  • 양극 산화 / 도장 표면
  • 세라믹
  • 합성물
  • 원석
  • 금속
  • 플라스틱
  • 귀금속
  • 박막

레이저 기능 (RM, HS & EP):

 

RM 시리즈(감소 모드)

  • 펄스 옵션이 제한적인 기본 제품
  • 기본 소프트웨어 및 하드웨어 인터페이스
  • 이 모델은 2 PulseTune 파형의 이점을 활용하며 최대 500kHz의 제한적인 펄스 반복 주파수를 지원합니다.

HS 시리즈(고급 사양)

  • PulseTune 파형의 이점
  • 가변적 펄스 너비(25가지 파형 사전 설정)
  • 제어 성능 강화
  • 최대 1MHz의 펄스 반복 주파수.

EP 시리즈(성능 강화)

  • 최대 40가지의 최적화된 PulseTune 파형
  • 가장 다양한 용도의 광섬유 레이저 소스
  • 업계 최고 수준의 펄스 에너지 및 최대 출력 성능
  • 증가 된 펄스 에너지 및 최대 전력 성능
  • 3-2000ns의 펄스 너비.
  • 최대 4MHz 펄스 반복 주파수

빔 옵션:

 

S 유형 – 단일 모드 M2 <1.3

우수한 전원 안정성과 피사계 심도로 20 마이크론 미만의 섬세한 피처를 생성합니다. 피처 크기가 작아야 하는 용도에 적합합니다.

Z 유형 – M2 <1.6

약간의 초점 크기 증가와 양호한 피사계 심도로 보다 높은 최대 성능과 펄스 에너지를 제공합니다.

L 유형 – 저 모드 M2 1.6 – 2.0

약간 큰 초점과 피처를 제공하는 일반적인 마킹 용도로, 육안으로 구분할 수 있는 마크를 만드는 데 보다 적합합니다.

H 유형 – 고 모드 M2 2.5 – 3.5

큰 퍼스 에너지와 최대 성능을 제공하며 넓은 렌즈, 채워진 글꼴 유형 용도 및 넓은 영역을 커버하는 데 이상적인 큰 초점을 제공합니다.

M 유형 다중 모드 (M2 4.0 – 6.0) *곧 온다.

용접 및 세척에 이상적인 최고의 펄스 에너지 및 긴 펄스 지속 시간.

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